Технопарк ВГУ располагает современным оборудованием для проведения научно-исследовательских разработок в области индустрии наносистем и материалов и доведения их до готового изделия. Данное оборудование используется и как учебное (для обучения студентов старших курсов, бакалавров, магистров, проведения научно-исследовательских практик и стажировок) и как основная база для получения небольших партий опытных образцов.

Лазерная установка предназначена для стимулирования различных физико-химических процессов. Используется СО₂-лазер, плотность мощности излучения, падающего на образец, составляет 3 Вт/см², длина волны излучения – 10,6 мкм

Оптический спектрометр предназначен для определения энергетических и оптических констант у диэлектриков и полупроводников, таких как ширина запрещенной зоны, энергия химической связи и вид химической связи.

Растровый электронный микроскоп предназначен для получения визуальной картины топологии и микроструктуры различных объектов (живой и неживой природы). Максимальное увеличение ×200000.

Установка для осаждения наноразмерных монокристаллических пленок сложных оксидов «Плазма 50СЭ» предназначена для получения методом реактивного ВЧ-распыления тонких монокристаллических пленок сложных оксидов (сегнетоэлектрики, ВТСП). Рост эпитаксиальных структур происходит за счет трехмерного упорядочения атом-кластер-кристалл. Энергетика плазменных процессов доминирует в общем процессе роста гетероэпитаксиальных пленок сложных оксидов, что достигается за счет нестандартной конструкции распылительного узла и режимов возбуждения плазмы при давлениях кислорода до 100 Па.

Спектрометр универсальный рентгеновский предназначен для количественного и качественного анализа различных объектов, таких как порошки, тонкие пленки и массивные образцы (с помощью рентген-флюоресцентного и рентгенофазового анализа).

Установка фотонного отжига предназначена для фотонного облучения тонких пленок, как в вакууме (гомогенизирующий отжиг), так и в газовой среде (окислительный отжиг). Представляет собой универсальный вакуумный пост, на котором под колпаком установлена карусель для образцов и 6 галогеновых ламп, общей мощностью 6 кВт. Температурный интервал от 50 до 1000 ºС.

Установка магнетронного напыления предназначена для создания функциональных гетероструктур на основе диэлектрических и полупроводниковых подложек с пленками металлов, оксидов, нитридов различного диапозона толщин (от микронного до наноразмерного). Представляет собой универсальный вакуумный пост, на котором установлено два магнетрона для распыления металлов. Наличие двух магнетронов в одной вакуумной камере позволяет работать в одном технологическом цикле сразу с двумя металлами, их оксидами и их нитридами. Комбинируя металлы, их оксиды и их нитриды, можно получить сложную слоистую структуру в виде тонкой пленки. Электронный блок управления гарантирует воспроизводимость полученных результатов.